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        鍍層的光亮度影響變化

        2021-01-25 02:56:53 已有198人瀏覽 admin
               氯化鋅、氯化鈷氯化鋅是鍍液的主鹽,為鍍液提供原始鋅離子。熱浸鋅雖然在電渡中會逐漸減少,但因陽極鋅板的溶解而得到補充。
               氯化鋅濃度對鍍液的性能影響主要表現在:當氯化鋅濃度低時,電流開不大, 易造成鍍件的高電流區(邊角)燒焦,鍍層亮度不足,鍍液均鍍能力差,覆蓋能力也差。當氯化鋅濃度過高時,鍍層亮度雖足,但結晶較粗,鍍液的覆蓋能力變差,而均鍍能力增加,電流使用上限增加,即可以使用較大電流,生產效率高。
               對鍍層的影響不僅僅是結晶的粗和細,更重要的是對鍍層中鈷含量的影響。當熱浸鋅離子與鈷離子按一定比例變化金屬離子總濃度時,對合金成分影響不大,基本上 穩定在0.5%~0.6%之間。鄧朝陽等人繪出了金屬離子總濃度變化(固定熱浸鋅鈷離子 質量比為8:1時)對鍍層中鈷含量的影響關系。
               當鍍液中鋅鈷金屬離子總濃度控制在一定摩爾濃度下,改變熱浸鋅鈷離子的摩爾比,則會嚴重影響鍍層中鈷的含量。當熱浸鋅鈷總離子濃度為0. 8mol/L時,鋅鈷離子濃度之比例對鍍層中含鈷量的影響。
               pH在氯化物鍍鋅鈷合金溶液中pH 不僅影響到鍍液的穩定,鍍層的光亮度,而且還會影響鍍層中鈷的含量變化。隨著鍍液pH的升高,鍍層中鈷含量 也相應升高,但升高的幅度并不大。從鍍液綜合性能考慮,鍍液的pH—般要控制在4.5 ~5.5之間,這時鍍層中鈷含量均在0.6%左右。

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